Virtual show | SEMICONDUCTORS & ELECTRONICS

ネプコン ジャパン 2025 
ご来場ありがとうございました

次回ネプコン ジャパン 2026も出展いたします。

開催日時: 2026年1月21日(水) ~ 1月23日(金) 10:00 ~ 17:00

出展場所: 東京ビッグサイト 東7ホール E33-42

新次元の精度を実現: 最大6自由度を測定するエンコーダ

HEIDENHAINのMULTI-DOF TECHNOLOGYで設計したエンコーダは1自由度以上の位置フィードバックを実現します。この追加のフィードバックにより測定精度が大きく向上し、システムに影響を与える可能性のある動きを多次元で検知し、補正することが可能です。この革新的な技術を搭載したエンコーダには、2軸座標測定用エンコーダPP 6000 Dplus、リニアエンコーダLIP 6000 Dplus、ギャップエンコーダGAP 1000があります。

LIP 6000 Dplus : 1本のスケール、1 個の走査ヘッドで2 自由度

LIP 6000 Dplus は1本のスケール本体に斜め45°と-45°の目盛トラック2個を搭載しています。各目盛ごとに走査フィールドを持つ特殊な走査ヘッドにより、測定長全体にわたって主方向Xとその直交方向Yを直接かつ正確に測定します。EnDat 3インターフェースにより、2つの位置値を1本のケーブルでコントローラに送信できます。これにより、ケーブル配線を大幅に削減し、設置を簡単にするとともに、モーションシステムの動的性能を最適化します。

GAP 1081: 面外ギャップ測定

新製品のGAP 1081はハイデンハイン初のギャップエンコーダです。それは特殊ミラーと走査ヘッドの間の垂直方向のギャップを測定します。その結果、GAP 1081を簡単な垂直方向の位置決め作業に使用することができます。もしくはLIP 6000 Dplusのようなリニアエンコーダと平行に取付けることで、直線軸に沿って連続的に垂直方向の測定を行うことができます。GAP 1081のミラーは最長3 mまで対応します。1つのミラーに2つの走査ヘッドを配置すると、軸のピッチとヨーの両方を測定することができます。

ハイエンドアプリケーション向けモーションシステム

ETELは半導体アプリケーションの多様な要求を満たすスタンドアロン製品から高度に統合されたプラットフォームまで幅広いモーションシステムを用意しています。これらを活用することで装置メーカーはモーションコントロールを意識することなく、プロセスに集中することができます。

VULCANO2: 高い動作性・長いストローク・防振ソリューション

半導体プロセス制御用のモーションシステムソリューション

  • VULCANO2 XY: 高精度でダイナミックなパフォーマンス
  • DXR+モジュール: ミッドエンドアプリケーション向けの回転駆動
  • QUIETアクティブアイソレーションシステム: 振動キャンセル
  • WINGLETソフトウェア: 自動テストおよびデータ分析

QUIET POD: PODベースのアイソレーションシステムで、小さな機械から非常に大きな機械まで使用可能

アクティブアイソレーションシステム・低周波スプリング ベースのアイソレータ

  • 6自由度(6DOF)を超えるリニアモータベースのアクティブダンピング
  • 最大99 %のフィードフォワード精度
  • 最大4500 kgのペイロード
  • モジュール式でアプリケーションに合わせて拡張可能

精度とスループットの融合: HEIDENHAINのネプコン ジャパン 2025にて、エレクトロニクス・半導体製造のための新しいソリューションをご覧ください

動的な回転軸用のHEIDENHAINオープンタイプエンコーダ: ERO 2000とMULTI-DOF TECHNOLOGYを搭載したERP 1080 Dplus

エレクトロニクス・半導体製造はダイナミックな産業です。HEIDENHAINはオープンタイプエンコーダの継続的な技術開発で、エレクトロニクス・半導体製造の急速な変化に対応しています。例えば、インクリメンタル角度エンコーダERO 2000は、ガルバノスキャナのように設置スペースが限られ、高い動特性を要求されるアプリケーション向けに設計されています。また、非常に高精度で高分解能なERP 1000もあります。さらに4個の走査ヘッドを搭載したERP 1080 Dplusは、角度エンコーダモジュールMRP 8081 Dplusと同じ堅牢性と取付けに関するメリットがあります。

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半導体・電子機器製造用ソリューションをさらにご紹介します。